韩国专家断言：自研 EUV 光刻机需耗时 10 年，多国难以突破

4 月 16 日消息：EUV 光刻机是 5nm 以下工艺绕不过去的核心设备；目前全球仅有 ASML 公司能够生产，这是集合了美国、欧洲及亚洲等多个国家技术联合研发的成果。

由于众所周知的原因，还有个国家需要自研EUV光刻机，但这个挑战难度极大，光刻机早被很多人吹成了什么工业皇冠上的明珠了，而EUV又比常规的DUV光刻机难度再高一两个级别，售价通常在2-4亿美元。

对于有国家想自研EUV光刻机，韩国媒体援引韩国汉阳大学材料科学教授安振浩的表态称不看好这个努力，认为10年内开发出能够大规模生产芯片的EUV光刻机是不太可能的。

安振浩最近获得了韩国的工程院大奖，是科班出身的科技领域资深教授，但他对其他国家2028年拿出可量产交付的EUV光刻机表示怀疑。

他还表示即便是尼康这样的行业巨头，长期掌握着光刻技术，也从来做到过EUV技术突破，这不是能靠蛮力就能进入的技术。

他还提到就算是ASML公司，也是开发了数十年的EUV技术，还要依赖紧密协调的生态系统，包括蔡司的精密光学和专用光源技术。