三星冲击高端内存失利：良品率成瓶颈，赶超 SK 海力士梦碎

4 月 22 日消息，三星在高端内存领域的追赶步伐遭遇重大挫折。由于关键基础技术——"D1d DRAM"的良率未能达到内部设定目标，三星已决定无限期推迟下一代"HBM5E"内存的量产计划。

此次出问题的D1d DRAM是三星第七代10纳米级工艺，原本是未来HBM解决方案的核心基础。按照规划，这项技术将被用在第九代HBM产品HBM5E上。

虽然该技术此前已拿到预生产批准，但良率持续低于目标水平，让试运行的投资回报率都成了问题，更不用说大规模量产了。

据报道正在大幅缩短HBM开发周期，新方案准备速度前所未有。但开发速度快不代表就能直接量产，生产周期现在成了最大瓶颈。

与此同时，三星也在加码产能建设，已在韩国温阳投入额外资源兴建一座面积相当于四个足球场的大型芯片厂，专门用于生产包括HBM在内的下一代DRAM产品，该厂将负责封装、测试、物流和品控等关键环节。

三星的老对手SK海力士已在D1d DRAM技术上完成研发并确保了良率。

双方目前都在争抢头部AI公司的大单，谁能把HBM规划做得更灵活，在保证良率和稳定投资回报的前提下做到持续研发与生产，谁才能笑到最后。