台积电采购ASML最新EUV光刻机，40年竞争不止，行业领先技术揭秘

6月5日消息，近日，台积电董事长魏哲家在股东大会上首次证实，已采购ASML最新的High-NA EUV（高数值孔径极紫外光）设备，提前布局<A14>及更先进的制程。

对于市场关注的下一代光刻机布局，魏哲家证实，台积电已采购ASML最新High-NA EUV设备，并非外界质疑的不投资，而是相关设备成本极高。

至于采购数量，他则不愿透露，仅表示“已经买了”。 媒体分析，High-NA EUV将成为A14及更先进制程的重要关键设备，也意味台积电已提前卡位后2nm技术竞争。

此外，魏哲家表示，AI需求依然非常强劲，先进制程、先进封装与特殊制程动能明确，今年以美元计营收成长仍将超过30%。

面对未来展望，他更喊话股东：“下面几年都很好，你如果预计买股票，请继续。”

面对韩国积极发展半导体产业、Intel 18A制程发展，以及马斯克计划打造TeraFab晶圆厂等话题，魏哲家表示，台积电40年来从不缺竞争对手，唯一能做的就是持续努力经营并超越对手，“就是这么办”。

他强调，台湾半导体产业的优势来自长年累积的完整生态系，从晶圆制造、封装测试到系统组装，以及鸿海、华硕、纬创等供应链群聚效应，都是数十年累积的成果，不是南韩可以复制出来的。

至于马斯克规划自建晶圆厂，他则表示，“我唯一的说法就是祝福他。”